Полиэтиленовая пленка UHMW обладает чрезвычайно высокой стойкостью к истиранию, превышающей стойкость к истиранию стали.В сочетании с широкой химической стойкостью и низким коэффициентом трения сверхвысокомолекулярный материал является чрезвычайно универсальным конструкционным материалом для многих тяжелых условий эксплуатации.Скользкий, как полимер® Фторполимер, но очень устойчивый к истиранию и износу.СВМ-полимеры имеют среднюю молекулярную массу в 10 раз больше, чем у обычных полиэтиленовых смол высокой плотности.Более высокая молекулярная масса придает полимерам UHMW уникальное сочетание характеристик. Применение: внутренние и внешние поверхности шлангов для питьевой воды, химических, топливных и гидравлических систем, нижние поверхности лыж и сноубордов, накладки желобов для уменьшения трения и износа.
Коммерческая срезанная пленка из сверхвысокомолекулярного полиэтилена (СВМПЭ) с высокой одноосной ориентацией1 была исследована в процессе плавления и кристаллизации с временным разрешением 30 с с целью выявления механизмов кристаллизации.
Установлено, что изотропная кристаллизация происходит при нагревании расплава до 140°С и выше.Ориентированная кристаллизация происходит, если температура расплава поддерживается при температуре 138°С или ниже.Оптимальная температура отжига расплава составляет 136◦C.При этой температуре полукристаллическая наноструктура исходной пленки полностью стирается, тогда как ориентационная память расплава сохраняется.При этом изотермическая кристаллизация не может начаться при температуре 110◦С и выше.При температуре 105°С ориентированная кристаллизация начинается через 2,5 мин.Ламели с медленно уменьшающейся толщиной растут в течение изотермического периода 20 мин.
Во время следующей неизотермической кристаллизации (скорость охлаждения: 20°C/мин) образуются небольшие кристаллические блоки с корреляцией следующих соседей.Таким образом, механизмы кристаллизации аналогичны механизмам кристаллизации других полиэтиленовых материалов с достаточно высокой плотностью переплетения цепей, изученных ранее, за исключением значительного переохлаждения, необходимого для инициирования изотермической кристаллизации.
Проведен анализ данных в реальном пространстве с помощью многомерного CDF.При плавлении материала средняя толщина кристаллических слоев остается постоянной (27 нм), а за длительный период сильно увеличивается с 60 нм до 140 нм.Поскольку анализ показывает, что даже в исходной наноструктуре доминируют корреляции следующих соседей, это означает, что стабильность ламели монотонно увеличивается в зависимости от расстояния до ее соседей.Хотя исходная структура имеет удлиненные ламели, ширина рекристаллизованных доменов не превышает расстояния между ними в направлении волокон s3.
Приложения включают облицовку конвейера, направляющих, вкладышей желоба, направляющих цепи, направляющих ящиков и снижения шума.Отличная стойкость к истиранию и износу.
Время публикации: 17 июня 2017 г.